前三星高層涉盗商業秘密被捕 試圖在中國複製一座半導體工廠
《彭博》 報導引述韓國檢察官於 6 月 12 日的聲明指一名前 Samsung 高層因涉嫌在 2018 至 2019 年間盜取商業秘密,試圖在中國北部城市西安複製一座半導體工廠,而遭到逮捕。該人士,現年 65 歲,計劃由一家未被具名的台灣公司提供資金支持。 這起案件揭示的情況嚴重,以至於根據南韓蘇院區檢察官辦公室的聲明,其犯罪規模和損害程度難以與以往的個別半導體技術洩露案件相比。 相對於試圖引誘關鍵工程師、挪用關鍵設計或反向工程軟體和組件的智慧財產權案件,想要複製整個晶片製造設施的企業案例卻相對罕見。 檢察官表示,這位前高層試圖利用偷來的技術和數據,在西安現有設施 1.5…