前三星高層涉盗商業秘密被捕 試圖在中國複製一座半導體工廠

《彭博》 報導引述韓國檢察官於 6 月 12 日的聲明指一名前 Samsung 高層因涉嫌在 2018 至 2019 年間盜取商業秘密,試圖在中國北部城市西安複製一座半導體工廠,而遭到逮捕。該人士,現年 65 歲,計劃由一家未被具名的台灣公司提供資金支持。

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這起案件揭示的情況嚴重,以至於根據南韓蘇院區檢察官辦公室的聲明,其犯罪規模和損害程度難以與以往的個別半導體技術洩露案件相比。

相對於試圖引誘關鍵工程師、挪用關鍵設計或反向工程軟體和組件的智慧財產權案件,想要複製整個晶片製造設施的企業案例卻相對罕見。

檢察官表示,這位前高層試圖利用偷來的技術和數據,在西安現有設施 1.5 公里外建造一座複製三星晶片工廠。但是,據韓聯社報導,台灣公司在承諾將在新設施中投資超過 60 億美元後,未能兌現該承諾。

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據《彭博》 報導,這位前高層轉而尋求一群中國投資者的支持,在成都的一家晶片工廠開始以三星技術為基礎生產試驗產品。而這位涉案人士在三星工作了 18 年後,轉至另一家未被具名的公司工作了大約十年。在這過程中,該前三星官員聘用了來自韓國的超過 200 名晶片專家,並從三星偷走了價值至少 3000 億韓元(2.33 億美元)的重要數據。檢察官們還起訴了六名涉嫌是這名高級執行官的同謀者。

這起案件也可能引發韓國和台灣之間的緊張關係,因為雙方也是全球最重要的晶片製造中心。

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